当前位置：首页 > 正文

什么是cvd法？对于mocvd，它的优点和缺点是什么

作者：小雪发布时间：2023-02-06浏览：461

化学气相沉积碳化硅材料是RTP/epi 圆环和基座以及等离子体刻蚀腔体零部件的主要选用对象，这些零部件在系统要求工作温度高>1500°C、对纯度的要求特别高>99.9995%以及对耐化学品性能特别高的时候性能尤其出色。这些材料在晶粒边缘不含有二次相，因此与其他材料相比，其零部件所产生的颗粒就较少。

此外，这些零部件可以使用热的HF/HCl 进行清理，降解很少，从而使其所产生的颗粒也极少，使用寿命也更长久。

声明：部分资源转载自互联网，转载目的在于传递更多知识，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。如有侵权或者知识有谬误之处，麻烦通知删除，谢谢！联系方式: zzsla2022#163.com

相关推荐