当前位置：首页
> 正文
镀膜工艺参数要不要保密
作者：Judy发布时间：2023-02-14浏览：465
要保密的
镀膜工艺参数直接决定了，膜基结合力，膜基绕镀性，颜色，均匀性等问题，因此镀膜工艺参数对整个镀膜过程来说，是非常的重要。最终多弧离子镀膜机是否能镀出我们想要的膜层效果，每个参数都必须要严格按照的镀膜标准来设置。主要工艺参数有：基体沉积温度、反应气体压强与流量、靶源电流、基体负偏压、基体沉积时间等。实验对多弧离子镀制备TiC薄膜的工艺与性能进行了研究，得出各工艺参数对涂层显微硬度和涂层/基体结合力的影响程度。对显微硬度影响程度的主次顺序是反应气体流量、沉积时间、基体负偏压、靶源电流；对涂层/基体结合力影响程度的主次顺序是沉积时间、反应气体流量、基体负偏压、靶源电流。
声明：部分资源转载自互联网，转载目的在于传递更多知识，并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。如有侵权或者知识有谬误之处，麻烦通知删除，谢谢！联系方式: zzsla2022#163.com
